David H. Wang

Turma de 2023, EY World Entrepreneur Of The Year™, China continental
Presidente e fundador da ACM Research Inc.

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David H. Wang ajuda a garantir que a indústria de semicondutores vital, em âmbito global, opere de forma limpa e segura.

Os semicondutores são essenciais para a vida cotidiana, desde nossos smartphones e automóveis até dispositivos médicos avançados e tecnologia de energia limpa. Sua limpeza, porém, requer o uso de reagentes químicos perigosos, como ácido sulfúrico concentrado. Graças às tecnologias criadas por David H. Wang, o uso desses produtos químicos pode ser reduzido em 50% a 80%, ao mesmo tempo em que reduz os custos de produção, o consumo de energia e as emissões.

Como presidente e fundador da ACM Research Inc., David foi pioneiro em processos de limpeza para remover partículas e elementos contaminantes. Ele é o inventor da tecnologia de polimento de cobre sem estresse e detém mais de 100 patentes em equipamentos semicondutores e tecnologia de processo.

As categorias diversificadas de produtos de equipamentos da ACM compreendem limpeza de semicondutores, galvanoplastia, forno vertical, revestidor e esteira de revelação, deposição e embalagem de vapor químico aprimoradas por plasma. As ofertas da empresa também aumentam os rendimentos a partir da fabricação de circuitos integrados e aumentam a eficiência da produção, graças a uma abordagem holística. A ACM integra funções de pesquisa e desenvolvimento, design, fabricação e vendas, contemplando os estágios de fabricação de front-end e back-end nos processos de fabricação de chips.

Com 448 patentes autorizadas em todo o mundo e centros de P&D em Xangai e na Coreia do Sul, a ACM se posicionou como uma das principais inovadoras em um setor globalmente vital. Sob o comando de David, a visão da ACM é ser a empresa líder em equipamentos semicondutores com a linha mais abrangente de produtos de limpeza do mundo.